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北方华创磁控溅射ITO薄膜制备设备助力LED产业发展
发布时间:2018-11-02
  第十五届中国国际半导体照明论坛暨2018国际第三代半导体论坛,于近日在深圳会展中心举办。此次论坛由国家半导体照明工程研发及产业联盟(CSA)、第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)、深圳市龙华区人民政府主办。围绕“创芯聚智,共享生态”这一主题展开。



  北方华创此次携LED领域解决方案盛装出席大会,在半导体装备与智能制造分论坛上,产品总监董博士做了关于《磁控溅射制备的ITO薄膜在LED领域中的开发及应用》的主题演讲,与产业内各领域专家、领袖企业,共商半导体照明产业未来发展之道。


   NAURA ITO溅射设备采用“RF+DC”的溅射方法,独特的磁场设计、大接地的硬件结构;制备的ITO薄膜致密性好、透过率高、黏附性强;可以有效降低LED芯 片Vf,提升芯片亮度和ESD,各项工艺指标均达到了业内领先水平。同时设备具有结构简单、产能大、占地面积小、维护方便、耗材成本低等特点,受到了 LED客户的广泛青睐。目前北方华创已经有数十台ITO溅射设备在客户端稳定量产。




  2018年半导体产业迎来巨大的机遇与挑战,技术创新成为我们突出重围的关键。北方华创必将以科技创新为基点,着眼未来,助推产业技术进步,带给产业无限可能。








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