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NMC612G 12英寸刻蚀机 NMC612G 12 Inch Etcher
  NMC612G设备是针对NMC612G 12英寸刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于IC集成电路领域的金属铝刻蚀工艺,以及Micro OLED领域金属和非金属刻蚀工艺。该产品为多腔室集群设备(Cluster Tool),能够进行全自动串行及并行工艺处理。系统主要由传输模块(Transfer Module)、刻蚀工艺模块(Etch Process Module)、去胶模块(Strip Process Module)、电源柜(Remote AC Power Rack)等组成,其中刻蚀工艺模块用于进行金属或非金属刻蚀工艺,去胶模块用于去除金属刻蚀后的残余光刻胶,传输模块用于把晶片安全而准确地传送到指定工位,电源柜用于为系统提供电源。NMC612G刻蚀机提供多种均匀性调试手段,提升工艺均匀性水平。

应用领域:

  集成电路领


适用工艺:

  Al Etch多晶硅刻蚀、介质刻蚀、Al/Mo/ITO等金属刻蚀。


产品优势:

  • 可用于IC集成电路领域Al刻蚀工艺,设备具备多种均匀性调节手段。
  • 采用12英寸IC刻蚀设备的先进设计理念,能够满足Micro OLEDSi基微显行业要求。
  • 高性能静电卡盘,可用于Si wafer及玻璃片稳定吸附。
  • 独特的传输系统设计保证Si Wafer及玻璃片的稳定传输。
  • 可用于微显示TiAlMo等金属及OxidePoly多种刻蚀工艺。
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