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Polaris A系列ALD 设备 Polaris A series ALD system

  Polaris A系列ALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和大规模自动化生产的最灵活、最可靠的原子层沉积ALD工艺平台。该设备非常适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产。

  区别于普通CVDPECVD原理,ALD可沉积超薄的、高深宽比的膜层。Polaris A系列ALD设备是用加热的方式,通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,可用于沉积Al2O3HfO2ZrO2TiO2TiNTaNALN等多种薄膜。

  Polaris A系列ALD设 备通过独特的气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方,成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性;此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其 他选项;特殊设计的进气结构,解决了传统腔室的颗粒问题,使之具有良好的洁净度,改善产品的电性能和良率;设备系统易于安装维护,大大提高了装机和PM的周期。

应用领域:


集成电路, 半导体照明,功率半导体,微机电系统,先进封装


适用工艺:


Hi-K介质材料,金属栅极,绝缘层,阻挡层,掩膜,钝化层


产品优势:


  • 紧凑的腔室结构设计、独特的进气结构,提高前驱物的吹扫效果,缩短ALD的工艺时间;
  • 高效的前驱物传输系统,先进的工艺形式,提高前驱物的输送效率,减小前驱物的消耗;
  • 易于维护的结构设计,提高机台的运行时间;
  • 较低的运营成本和备件成本
  • 成熟的工艺控制满足28-14nm及更低技术代的高端需求
  • 特殊的加热基座,低能耗,高精度的温度场控制,具有良好的温度重复性。
  • 模块化部件设计,便于在洁净室内安装和启动生产。
  • 具有多种安全报警保护、安全互锁、历史记录、操作日志查询等功能。
  • 整机符合semi标准,功能齐全、软件操作界面符合大生产线需求。
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