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HORIS P8571A管式PECVD设备 HORIS P8571A Tube type PECVD

  在设备同等占地面积下提高单台设备产能,优化工艺效果,一直是晶硅电池片生产线厂商对管式PECVD设备的迫切需求。HORIS P8571A管式PECVD通过对进气方式、石墨舟、工艺反应腔室的独特设计,保证工艺性能优异的基础上提高单管的装片量,以及通过提高炉体的快速回温能力、工艺腔室真空抽速能力来压缩工艺时间,同时,提高单台设备的工艺管数量。HORIS P8571A管式PECVD设备通过上述性能的提升,单台满足160MW以上的产能和工艺需求。

应用领域:

  光伏PV


适用工艺

  淀积SiNxSiOxSiONxAlOx单层或多层薄膜工艺

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