技术创新 Innovation
NAURA创新
  PECVD是一种低温淀积薄膜的设备,在晶硅太阳电池的实际生产中具有十分重要且广泛的应用。在所有可选择的设备类型中,管式PECVD受到众多厂商的青睐。
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  • 07.20 2017
      硅外延装备控制软件是硅外延片生产制造的依托,软件的不断迭代更新,是提升软件质量、提高设备稳定性和产能的重要途径。
  • 07.12 2017
      NAUAR 低压扩散炉制造技术不断进步和完善,自2016年来,晶体硅太阳能电池行业扩产和技术升级的太阳能电池制造商几乎都选择产能密度更高的低压扩散炉作为首选的掺杂设备。   NAURA 低压扩散炉已经遍布在中国的江苏、浙江、四川、安徽、山东、陕西、台湾,以及东南亚的马来西亚、泰国、越南甚至埃及的光伏电池制造工厂内高效生产。
  • 06.15 2017
      等离子体刻蚀在集成电路制造中已有40余年的发展历程。刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体、感应耦合等离子体和微波ECR 等离子体等。
  • 05.19 2017
      硅刻蚀设备是北方华创公司研发的干法刻蚀设备,具有硅片传输自动化程度高、工艺调节手段多样、设备可靠性高、机台占地面积小、设备产能大、维护简单、机台成本低等特点。
  • 04.26 2017
      随着装备的技术水平的不断提高,NAURA高产能管式PECVD必将成为晶硅电池生产线的绝对主流产品。 为解决世界能源和环境问题发挥重要作用。
  • 03.04 2017
      本文介绍了脉冲等离子体技术在干法刻蚀领域的应用背景,从半导体制程工艺需求层面讲述了纳米量级的刻蚀制程对等离子体参数的需求。
  • 03.04 2017
      等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。
  • 03.04 2017
      硅外延是一种单晶薄膜生长技术,在硅衬底片上,沿衬底晶向生长一层具有与体单晶一致的外延层,通过掺杂可获得所设定的导电类型,电阻率和厚度。