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北方华创微电子两项科研成果 荣获2016年度北京市科学技术奖
发布时间:2017-06-09

  近日,北京市科学技术奖励大会暨2017年全国科技创新中心建设工作会议在北京会议中心隆重举行。中共中央政治局委员、北京市委书记郭金龙,中共北京市委副书记、市长蔡奇,科技部党组成员、副部长李萌等领导出席会议并为获奖代表颁奖。此次共有180项科研成果荣获2016年度北京市科学技术奖,其中,北方华创微电子“22纳米集成电路核心工艺技术及应用”和“12英寸28nm金属硬掩膜物理气相沉积设备研发及产业化” 两项科研成果分别荣获一等奖和三等奖。

  22纳米集成电路核心工艺技术及应用”项目是北方华创微电子与中科院微电子所等单位共同完成的集成电路技术领域的科研成果。该成果在国家科技重大专项支持下开展技术攻关,突破了国外先进半导体公司在相关领域的技术限制,研发了创新的工艺和技术,取得了数百项专利授权(包括美国专利授权),建立了具有自主知识产权的专利体系,有力提升了国内集成电路制造及装备企业高端产品的技术产品水平。由北方华创微电子等单位共同开发的高端国产工艺装备在中芯国际、武汉新芯等国产集成电路制造企业开展了核心技术的验证及推广应用。

  12英寸28nm金属硬掩膜物理气相沉积设备研发及产业化”项目是北方华创微电子自主创新的研发成果。其研发了具备完全自主知识产权的28nm国产金属硬掩膜物理气相沉积装备(HardMask PVD),这是国内首台通过客户认证的工艺基线机台。该设备采用新型溅射源设计,有效满足28nm制程低应力的要求,提高了薄膜沉积均匀性和靶材利用率;通过自主研发的软件控制系统,实现了工艺和传输全自动化控制;通过独特的工艺整合和调控技术,提升了设备综合性能,降低了跨技术代产品开发难度,促进了产业化进程。目前,HardMask PVD设备已通过海内外多家公司的工艺验证,实现了我国高端集成电路PVD设备零的突破,打破了国外对金属硬掩膜工艺的技术垄断,已实现批量销售,量产25万片,并成功进入了国际主流客户生产线


  一年一度的北京市科学技术奖是奖励本市行政区域内对科技创新和发展做出突出贡献的组织和个人的最高荣誉。北方华创微电子不断开拓创新,突破重重困难,填补了国家在集成电路装备领域的多项空白。此前,北方华创集团公司的“100纳米等离子刻蚀机项目”、“大产能高亮度LED刻蚀机研发及产业化”、“磁控溅射设备(PVD)研发及产业化”和“燃料电池气体流量控制系统”等多项产品和研发项目曾获此殊荣。

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