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北方华创微电子14纳米 Hardmask PVD设备成功进入国际主流生产线验证
发布时间:2017-08-22

近日,北方华创微电子自主开发的14纳米 Hardmask PVD(硬掩模物理气相沉积)设备成功进入国际主流集成电路生产线验证,这是北方华创微电子继14纳米刻蚀机、单片退火设备之后,又一种14纳米集成电路设备进入工艺验证阶段。

TiN Hardmask PVD是集成电路制程中的一道重要工艺步骤,北方华创微电子基于多年集成电路PVD设备技术积累,针对性开发了exiTin H430 PVD设备,用于14 纳米TiN Hardmask薄膜沉积工艺,设备以全新的设计理念实现了多项技术突破,关键技术指标达到国际先进水平。

作为中国集成电路制造设备的先行者,北方华创微电子秉持以客户需求为导向的持续创新理念,深耕发展,开拓创新,不断为集成电路产业提供设备技术支撑!

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