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北方华创微电子与您相约上海SEMICON China 2018
发布时间:2018-03-06

尊敬的业界同仁:

  您好!

  北方华创将于2018年3月14日-16日亮相上海SEMICON China 2018半导体展,带您感受民族半导体装备的科技之美!


  在此次展览中,北方华创将全面展示为集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、微机电系统、化合物半导体、平板显示、新能源光伏等尖端领域量身定做的Etch、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean、MFC等高端半导体工艺装备及核心零部件,助力芯片制造商实现芯梦想,引领科技走进芯生活。


  展会同期,北方华创微电子总裁赵晋荣先生,副总裁、中组部“千人计划”专家丁培军博士、黄亚辉博士、刘韶华博士等8位公司高管和资深专家将分别在“合作共赢·做大做强中国集成电路产业链论坛”、“2018中国显示大会-新兴显示论坛”及“功率及化合物半导体国际论坛”上阐述独特的观点和理念,展示前沿科技创新和行业趋势。


  其中,在3月11-12日举办的“CSTIC中国半导体技术大会”上,北方华创将分别带来关于刻蚀技术、清洗技术、PVD和ALD薄膜技术以及MEMS刻蚀技术等主题的精彩分享,热切期待与各界朋友的深入探讨。


  SEMICON China 2018,北方华创在上海新国际博览中心N3馆3339展位恭候您的莅临,我们真诚期待与各位业界同仁扩大交流、增进友谊、深化合作、共谋发展!

  展台位置:N3馆3339展位

  展会地点:上海新国际博览中心

  展会时间:2018年3月14-16日 09:00-17:00

  相关事宜请联系:

  北方华创微电子市场部

  电话:+86 10 56178633/34

  传真:+86 10 57846777

  E-mail:sales.nmc@naura.com



NAURA演讲时间


合作共赢·做大做强中国集成电路产业链

315


演讲题目:《打造中国集成电路高端装备的大国重器》

讲师:北方华创总裁 赵晋荣 先生

时间:3月15日 13:55-14:20

地点:上海浦东嘉里大酒店浦东厅


2018中国显示大会-新兴显示论坛

314


演讲题目:《硅基微显示:新机遇,新挑战》

讲师:北方华创副总裁 黄亚辉 博士

时间:3月14日 10:20-10:45

地点:上海浦东嘉里大酒店浦东厅


功率及化合物半导体国际论坛

315-16


演讲题目:《The Application of High Density ICP Etch Equipment in Compound Semiconductor Devices Manufacture

讲师:北方华创 杨盟 先生

时间:3月15日 14:50-15:15

地点:上海浦东嘉里大酒店宴会厅4


CSTIC2018中国半导体技术大会

311-12

Symposium IV: Thin Film,Plating and Process Integration


演讲题目:《PVD Systems for Advanced Packaging Applications

讲师:北方华创副总裁 丁培军 博士

时间:3月12日 14:20-14:45

地点:上海国际会议中心长江厅


CSTIC2018中国半导体技术大会

311-12

Symposium IV: Thin Film,Plating and Process Integration


演讲题目:《Overview of ALD Applications for Advanced CMOS Technology

讲师:北方华创 史小平 博士

时间:3月12日 09:25-09:50

地点:上海国际会议中心长江厅


CSTIC2018中国半导体技术大会

311-12

Symposium VIII: MEMS, Sensors and Emerging Semiconductor Technologies


演讲题目:《From Carbon to Silicon, MEMS Enables AI Age

讲师:北方华创副总裁 刘韶华 博士

时间:3月12日 13:55-14:20

地点:上海国际会议中心会议室3I+3J


CSTIC2018中国半导体技术大会

311-12

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning


演讲题目:《The Study of STI Etching Micro-loading in Reactive Ion Etch

讲师:北方华创 董云鹤 女士

时间:3月12日 08:45-09:00

地点:上海国际会议中心 会议室3C+3D


CSTIC2018中国半导体技术大会

311-12

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning


演讲题目:《Zero Lag Dispense toIncrease the Etching Uniformity in a Single Wafer Wet Cleaner

讲师:北方华创 刘伟 博士

时间:3月12日 11:15-11:30

地点:上海国际会议中心会议室3C+3D


现场地图




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