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北方华创邀您SEMICON展上共话发展,齐创未来
发布时间:2019-03-13

尊敬的业界同仁:

您好!

草长莺飞二月天,拂堤杨柳醉春烟。一年一度的全球半导体行业顶级盛会SEMICON China将于2019年3月20日-22日在上海新国际博览中心举行。届时,全球半导体同仁将携手参展,为您带来一场无与伦比的科技盛宴。


北方华创作为中国半导体装备制造行业的领先者,在此次展览中全面展示为集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、微机电系统、化合物半导体、平板显示、新能源光伏等尖端领域量身定做的ETCH、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean等高端半导体工艺装备及解决方案,推动科技之美,打造半导体行业的新格局。


展会同期,北方华创微电子总裁丁培军博士,副总裁吴军博士将分别在“存储器发展论坛”、“先进制造论坛”及“功率及化合物半导体国际论坛”上发表独到的学术见解,引领前沿科技创新,带来行业新变革。 3月18-19日的“CSTIC中国半导体技术大会”上,行业专家史小平博士、末正智希先生以及另外六位公司资深专家,也将分别带来关于ALD薄膜、刻蚀、PVD、氧化/扩散等相关技术的主题分享。


北方华创诚挚邀请各位业界同仁莅临指导,愿与您共话发展,齐创未来!


展台位置:N3馆3339展位

展会地点:上海新国际博览中心

展会时间:2019年3月20-22日 09:00-17:00


相关事宜请联系:

北方华创微电子市场部

电话:+86 10 56178633/34

传真:+86 10 57846777

E-mail:sales.nmc@naura.com



NAURA 演讲时间

存储器发展论坛

3月20日

演讲题目:《北方华创助力存储产业发展

讲师:北方华创微电子总裁 丁培军 博士

时间:10:10-10:35

地点:上海浦东嘉里大酒店浦东厅4

先进制造论坛

3月21日

演讲题目:做努力奔跑的国产半导体设备追梦者

讲师:北方华创微电子总裁 丁培军 博士

时间:9:20-9:45

地点:上海浦东嘉里大酒店浦东厅


功率及化合物半导体国际论坛

3月21日

演讲题目:《From Si to Compound Semiconductor-EPI Technology and Application in Power Electronic Devices》

讲师:北方华创微电子副总裁 吴军 博士

时间:14:25-14:50

地点:上海浦东嘉里大酒店浦东厅4







CSTIC2019中国半导体技术大会


3月19日

Symposium IV: Thin Film,Plating and Process Integration

演讲题目:Developments of Cu Barrier/Liner Materials for Advanced CMOS Technology Node

讲师:北方华创 史小平 博士

时间:11:10-11:35

地点:上海国际会议中心会议室3B

CSTIC2019中国半导体技术大会


3月19日

Symposium III: Dry&Wet Etch and Cleaning

演讲题目:《Advanced Si Etch System for 14nm and Beyond》

讲师:北方华创 末正智希 先生

时间:9:00-9:30

地点:上海国际会议中心会议室3C+3D

CSTIC2019中国半导体技术大会


3月19日

Symposium IV: Thin Film,Plating and Process Integration

演讲题目:《Properties of PVD AlN for LED Applications》

讲师:北方华创 郭冰亮 先生

时间:14:00-14:15

地点:上海国际会议中心会议室3B

CSTIC2019中国半导体技术大会


3月19日

Symposium III: Dry&Wet Etch and Cleaning

演讲题目:《A Study of Deep Silicon Etching for Power Device Fabrication》

讲师:北方华创 万宇 先生

时间:9:30-9:45

地点:上海国际会议中心会议室3C+3D

CSTIC2019中国半导体技术大会


3月19日

Symposium III: Dry&Wet Etch and Cleaning

演讲题目:《Estimating the Etching Depth Limit in Deep Silicon Etching

讲师:北方华创 林源为 博士

时间:17:00-17:15

地点:上海国际会议中心3C+3D

CSTIC2019中国半导体技术大会

3月19日

Symposium IV: Thin Film,Plating and Process Integration

演讲题目:《Thermal Oxidation Process and Uniformity Improvement Studies

讲师:北方华创 孙妍 女士

时间:9:30-9:45

地点:上海国际会议中心会议室3B




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