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Bcube系列WC3000A、WC2000A、WC1000A 全自动槽式清洗机 Bcube Series WC3000A、WC2000A、WC1000A Automated Bench Cleaning System

  在半导体制造工艺中,上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等,光阻掩膜或残留会导致芯片良率下降等问题,这需要通过清洗工艺来解决。另一方面,由于设备产能需求的不断提升,清洗设备需要由早期的手动、半自动设备升级为全自动设备。对未来的清洗技术发展而言,清洗工艺的稳定性和均匀性,设备与工厂端的数据交互等要求会越来越高,这些需求将带来对槽式清洗设备的进一步挑战。


应用领域:

  微机电系统、半导体照明、功率半导体


适用工艺:

  预清洗、去胶清洗、RCA清洗、扩散前/后清洗、外延前清洗等



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