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Bcube系列WE3000A、WE2000A、WE1000A全自动湿法腐蚀设备 Bcube Series WE3000A、WE2000A、WE1000A Automated Wet Etching System
  在半导体制造工艺中,需要对晶片表面的硅氧化膜、氮化硅或金属等薄膜材料进行湿法腐蚀,为后道的工序准备好表面条件。随着晶片表面图形结构特征尺寸的不断缩小,对腐蚀工艺的准确性和均匀性的要求也越来越高,需要对腐蚀工艺的各种参数进行更精准的控制。同时,设备产能提升、清洗药液的循环利用、腐蚀工艺过程的动态控制等需求会推动全自动湿法腐蚀设备的不断优化和升级。

应用领域

  微机电系统、半导体照明、功率半导体


适用工艺

  氧化膜腐蚀、硅材料腐蚀、金属腐蚀、PSG腐蚀等


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