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Bcube系列 WC2000M、WC1000M手动槽式清洗机 Bcube Series WC2000M、WC1000M Manual Bench Wet Station
  在半导体制造工艺中,上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等,光阻掩膜或残留会导致芯片良率下降等问题,这需要通过清洗工艺来解决。清洗一般采用化学和物理作用力相结合的方法实现,在清洗时既要有很好的腐蚀选择性,高效的去除超微细颗粒物及各种残留物的能力,又不能对晶片表面的精细图形结构造成损伤。手动槽式清洗设备由于在设备产能、设备稳定性等方面的优势而广泛应用在微机电系统、半导体照明、功率半导体等领域。

应用领域:

  微机电系统、半导体照明、功率半导体


适用工艺:

  预清洗、去胶清洗、RCA清洗、扩散前/后清洗、外延前清洗等


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