产品&服务 Products & services
半导体装备 Semiconductor
ELEDE® 330P刻蚀机 ELEDE®330P Etcher

  ELEDE 330P刻蚀机是第三代微波功率器件-GaN微波功率制作的的关键设备, 可以用于背面工艺中的SiC通孔刻蚀,正面工艺中的台面刻蚀(刻蚀材料GaN,),SiNx栅槽刻蚀(刻蚀材料SiNx)。ELEDE 330P产品结合独特的线圈设计、下电极设计和多片托盘设计,实现精确的刻蚀速率控制和良好的工艺均匀性控制,满足不同制程的工艺要求。同时实现一盘多片生产,具备高产能优势。

应用领域

  微波功率器件


产品优势

  • 良好的的均匀性控制,片内,片间,盘间均匀性<5%。
  • SiC刻蚀速率快,装载7片晶片(4inch),ER>600nm/min。
  • 不同射频系统配置可实现极低速AlGaN/GaN 刻蚀(ER<2nm/min)。
  • 单盘产能高,有效降低客户单片运行成本。
  • 可兼容2英寸、3英寸、4英寸、6英寸不同规格的晶片。其他晶片尺寸可定制。
  • 可以满足多种刻蚀材料工艺(SiC, GaN, SiNx)应用。
  • 搭配独特的托盘设计, 确保极边缘位置(ee1mm)刻蚀干净,芯片良率高。
  • 可以搭配OES(Optical Emission Spectroscopy)进行终点控制,实现工艺的精确控制。
  • 精确的刻蚀速率控制能力,确保对功率器件栅无损伤。
  • 精确射频控制系统,充分保证量产重复性、稳定性和安全性。
  • 全自动化控制,降低人员操作难度。
  • 软件具有安全方便的权限管理,人性化的操作界面,完善的日志记录功能。




联系方式