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EPEE550 等离子化学气相沉积系统 EPEE550 PECVD System
  EPEE550 PECVDLED芯片和复合衬底制程的关键设备之一,广泛应用于LED蓝绿光和红黄光器件的SiOSiNx介质膜沉积,以及PSS复合衬底SiO厚膜的高速沉积。通过419片载盘、大功率在线等离子清洗、高均匀性控制、高低速率调控等专有设计,产品已被LED客户广泛接受并大规模量产,是LED领域客户扩产优选设备。同时该设备支持高均匀性、低应力SiNx薄膜沉积,可应用于第三代半导体功率器件的研发及量产。

应用领域:

  LED照明 、功率半导体、微机电系统


适用工艺:

  LED照明领域的SiO2SiNxSiON薄膜,

  功率半导体领域的SiNx薄膜


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