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APS 系列 SiC晶体生长系统 APS Series SiC Crystal Growth System
  Advanced PVT SiC System(APS)系列SiC晶体生长系统,是实现高质量SiC晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。针对高质量晶体生长,系统可实现感应线圈超慢速升降和快速移动,超慢速升降可实现晶体近匀速生长;快速线圈移动可实现不同工艺条件下线圈的快速定位。系统还具有可调速的晶体生长旋转装置、灵活的气路配置等功能设计,拓宽了高质量晶体生长的工艺窗口。针对高纯度原料合成,系统采用独特的工艺腔室设计,为合成SiC原料提供了高洁净环境,有效降低了合成原料中N、Al等杂质含量。针对高温晶体热处理,可实现...

应用领域

  适用于SiC晶体生长、原料合成、晶体热处理领域。


产品优势

  • 感应线圈超慢速升降和快速移动,优异的晶体生长温度场调节能力。
  • 灵活的系统气路配置和晶体生长旋转装置,拓宽了高质量晶体生长窗口。
  • 独特的工艺腔室设计,提供了高纯材料生长能力。
  • 4路工艺气路,充分保证高质量晶体生长所需的载气、功能气体需求。
  • 工艺自动执行系统,减少手动操作误差,确保了工艺执行的可靠性和重复性。
  • EP级气路管路,半导体级直角焊接,内壁表面粗糙度小于5um,保证工艺气体纯净。
  • 系统配置灵活、多样,更为贴合客户多样性的使用需求。



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