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Promi+ 系列手动ALD 设备 Promi+ series manual ALD system

  Promi+系列ALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和小规模生产的灵活、可靠的手动原子层沉积ALD工艺平台。该设备非常适合从大专院校研发阶段的薄膜沉积到小规模的工业化生产。

  该手动ALD平台可沉积超薄的、高深宽比的膜层。Promi+系列ALD设备可兼容加热和射频的方式,可用于沉积Al2O3HfO2ZrO2TiO2TiNTaNALNSiO2SiNx等多种薄膜。

  Promi+系列ALD设备通过独特的气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方,成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性;此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其他选项;特殊设计的进气结构,解决了传统腔室的颗粒问题,使之具有良好的洁净度,改善产品的电性能和良率;设备系统易于安装维护,大大提高了装机和PM的周期。

应用领域:


集成电路, 半导体照明,功率半导体,微机电系统,先进封装


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