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iTops A230 氮化铝溅射系统 iTops A230 AlN Sputter System
  PVD AlN是LED领域中一款创新的、革命性的工艺设备。 AlN缓冲层的加入,可以有效提升LED器件的光电性能、提高MOCVD设备的产能和降低整线生产成本。利用磁控溅射的原理,在衬底材料上制备目标厚度的AlN薄膜,通过SEM、XRD和AFM的测试分析,AlN薄膜结构具有高度的C轴取向,结晶品质高,表面光滑平整;在AlN表面外延生长GaN后,GaN FWHM的(002)/(102)可以达到90/140 arcsec,表面非常光洁、平整;根据对LED芯片TEM的观察和分析,GaN与AlN界面处的原子结合排布比较规则,GaN外延和MQW的生长过程中位错较少,原子排布整齐有序,这些均...

应用领域:

  蓝白光LED、紫外LED,可拓展至MEMS和HEMT领域


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