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半导体装备 Semiconductor
HORIS L6371 多功能 LPCVD HORIS L6371 Multifunction LPCVD



应用领域

  集成电路 IC、微机电系统 MEMS、功率器件 POWER


适用工艺:

  二氧化硅(LTOTEOS)、氮化硅(Si3N4(含低应力))、多晶硅(LP-POLY)、磷硅玻璃(BSG)、硼磷硅玻璃(BPSG)、掺杂多晶硅、石墨烯、碳纳米管等多种薄膜


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