首页>产品&服务>半导体装备 Semiconductor>氧化扩散设备 Oxide/Diff>HORIS D8572A 卧式扩散/氧化系统 HORIS D8472A Diffusion/ Oxidation
产品&服务 Products & services
半导体装备 Semiconductor
HORIS D8572A 卧式扩散/氧化系统 HORIS D8472A Diffusion/ Oxidation

  利用在半导体领域数十年的扩散炉研发经验和工艺积淀研制的多工艺流程扩散系统,满足客户多种制造工艺要求。HORIS D8572A实现了系统的闭管形式,可靠性指标MTBF900 h,大口径炉体、温区自动分布、控温软件开发、闭管结构、气流控制、尾气定向收集、炉体加工、自动上下料和工艺研发等一系列先进的久经产线验证的设计与制造技术,保证了卧式扩散炉多工艺流程的高性能与长期可靠性,被广泛运用于国内外各大半导体和光伏生产线。

  在集成电路、功率半导体、光信息器件、化合物半导体和晶体硅太阳能电池制造行业,各类氧化、退火和掺杂扩散工艺对设备提出了近乎苛刻的要求。精准的温度控制、稳定可重复的反应室压力、百级净化氛围、高产能、良好维护性、较高的经济性和可定制要求,使卧式扩散炉的制造技术和交付效率面临极高的挑战。

  干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成、扩散、退火、推进、合金和预沉积等多工艺流程需求,要求设备具有优异的工艺性能和灵活可靠的模块化设计与制造水平,这需要耕耘半导体行业数十年的经验来保证。


应用领域

ICPOWERLEDMEMSPV


适用工艺

常压(微正压)闭管干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火常压(微正压)闭管干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火/推进、合金


产品优势

  • 满足干氧/湿氧/氢氧合成氧化、扩散、退火、推进、合金和预沉积等多工艺流程。

  • 优秀的薄膜厚度均匀性、折射率均匀性、方块电阻均匀性。

  • 反应腔室类型和数量可选,模块化组合设计。

  • 反应快速的反应室压力平衡系统,提高工艺均匀性及重复性。

  • 专业的净化系统和气路系统设计,减少硅片颗粒污染。

  • 各管配独立的传动、加热、气路和控制系统,易于维护。

  • 成熟的舟自动调度系统,并可与多种倒片系统匹配,自动运行。

  • 软件符合semi标准,功能齐全、界面友好,具备MES功能(可选项)。

  • 具有多种安全报警保护、安全互锁、历史记录、操作日志查询功能。

  • 1965年研制开发国内第一台扩散炉,为国内设备与工艺最成熟扩散炉供应商。








联系方式