关键工艺设备的技术创新是推动产业创新发展的助推器，尤其在战略新兴产业，技术创新的作用更为突出。北方微电子正是这样一个秉承自主创新，以推进行业技术发展为使命的高端装备及工艺解决方案提供商。
2015年北方微电子公司发布了应用于LED制程的AlN缓冲层沉积设备，以其优越的技术性能优于同行获得客户信任，成为LED领域成功销售的AlN Sputter薄膜沉积设备。
经过一年的市场考验，AlN Sputter设备已实现20多台的海内外销售业绩，并获得台湾、韩国等LED主流客户的技术认可，工艺技术性能和稳定性均明显超越国际竞争对手，成为客户信赖的技术创新产品，尤其是其能够有效降低缺陷、提升芯片亮度、节省MOCVD工艺时间，为客户提升了产品竞争力、降低了生产成本，为客户创造了价值。目前，北方微电子AlN PVD设备，已成为客户争相哄抢的宠儿，LED产业的明星产品。
AlN Sputter设备可提高缓冲层与GaN外延层的晶格匹配度，提高LED产品的输出效率，拓宽MOCVD设备的工艺窗口，使产品的ESD测试通过率大幅提高；减低MOCVD的外延生长时间，提高产能，使整线的生产成本降低。同时，由于AlN薄膜的加入大大地降低了外延生长中的翘曲，大幅提升了芯片的良品率，促使其在大尺寸蓝宝石衬底上应用更具优势。并且该设备亦可扩展至2-8英寸MEMS、HEMT领域中的AlN薄膜的制备。
北方微电子作为国内LED领域高端设备及工艺解决方案提供商，从成立以来就不断深入技术创新性研发，与国内主流芯片厂商开展深度合作，通过自主技术创新，引领LED行业技术发展，AlN PVD设备正是北方微电子践行这一宗旨的硕果之一。相信在未来产业发展之路上，北方微电子还会结出越来越多的“引领”之花，“创新”之果。
