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Bcube系列 WC2000M、WC1000M手动槽式清洗机 Bcube Series WC2000M、WC1000M Manual Bench Wet Station
在半导体制造工艺中，上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等，光阻掩膜或残留会导致芯片良率下降等问题，这需要通过清洗工艺来
解决。清洗一般采用化学和物理作用力相结合的方法实现，在清洗时既要有很好的腐蚀选择性，高效的去除超微细颗粒物及各种残留物的能力，又不能对晶片表面的
精细图形结构造成损伤。手动槽式清洗设备由于在设备产能、设备稳定性等方面的优势而广泛应用在微机电系统、半导体照明、功率半导体等领域。
应用领域：
微机电系统、半导体照明、功率半导体
适用工艺：
预清洗、去胶清洗、RCA清洗、扩散前/后清洗、外延前清洗等
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