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Semiconductor
EPEE550 等离子化学气相沉积系统 EPEE550 PECVD System
EPEE550
PECVD是LED芯片和复合衬底制程的关键设备之一，广泛应用于LED蓝绿光和红黄光器件的SiO、SiNx介质膜沉积，以及PSS复合衬底SiO厚膜的高速沉积。通过4寸19片载盘、大功率在线等离子清洗、高均匀性控制、高低速率调控等专有设计，产品已被LED客户广泛接受并大规模量产，是LED领域客户扩产优选设备。同时该设备支持高均匀性、低应力SiNx薄膜沉积，可应用于第三代半导体功率器件的研发及量产。
应用领域：
LED照明，功率半导体，微机电系统
适用工艺：
LED领域SiO2、SiNx、SiON薄膜
Power领域SiNx薄膜