EPEE i800 PECVD设备利用等离子体促进沉积化学反应，使气相化学沉积能够在较低温度下形成高质量的固体薄膜，适用于SiO2（SiH4、TEOS）、SiNx、SiOxNy等多种介质薄膜沉积。

EPEE i800是一款高度自动化的大产能PECVD设备，整机采用集群式（Cluster）构架，配置有高自动化程度的晶片传送和装载系统，可搭配1~2个反应腔和1~2个功能腔（冷却、预热），扩展能力强。反应腔采用多站旋转式流水线构架，单腔内设6个沉积站，具有生产效率高、产能达的特点。独有的热衬高效清洗技术，而且设备本身设计有远程等离子体清洗（RPS）的接口，能够提供更加高效、节能的清洗效果。