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Semiconductor
Promi+ 系列手动ALD 设备 Promi+ series manual ALD system
Promi+系列ALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和小规模生产的灵活、可靠的手动原子层沉积ALD工艺平台。
该手动ALD平台可沉积超薄的、高深宽比的膜层。Promi+系列ALD设备可兼容加热和射频的方式，可用于沉积多种薄膜。
Promi+系列ALD设备通过气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方，成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性；此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其他选项；特殊设计的进气结构，解决了传统腔室的颗粒问题，使之具有良好的洁净度，改善产品的电性能和良率；设备系统易于安装维护，大大提高了装机和PM的周期。
应用领域：
集成电路， 半导体照明，功率半导体，微机电系统，先进封装
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