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Semiconductor
HORIS P8571A管式PECVD设备 HORIS P8571A Tube type PECVD
在设备同等占地面积下提高单台设备产能，优化工艺效果，一直是晶硅电池片生产线厂商对管式PECVD设备的迫切需求。HORIS P8571A管式PECVD通过对进气方式、石墨舟、工艺反应腔室的设计，保证在工艺性能优异的基础上提高单管的装片量，以及通过提高炉体的快速回温能力、工艺腔室真空抽速能力来压缩工艺时间，同时，提高单台设备的工艺管数量。HORIS P8571A管式PECVD设备通过上述性能的提升，单台满足160MW以上的产能和工艺需求。
应用领域：
光伏PV
适用工艺：
淀积SiNx、SiOx、SiONx、AlOx单层或多层薄膜工艺