功率器件 Power Devices
采用碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料、IGBT及Super Junction等新结构制造的新一代功率器件,具有高速、低损耗的特点,在风电、光伏、有轨交通、调频调速等新兴产业上得到广泛应用。具有节能、节材、环保等效益,未来市场前景广阔。在功率器件领域,NAURA自主研发的薄膜/厚膜硅外延APCVD系统、刻蚀设备及金属溅射PVD已获得国内多家功率器件客户的认可和批量采购;为多条功率器件生产线提供清洗解决方案;先进的卧式扩散/氧化系统可以满足功率半导体领域特殊工艺的应用。
氧化扩散设备 Oxide/Diff

-
THEORIS 302/FLOURIS 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
-
THEORIS 302/FLOURIS 201 立式退火炉是在中低温条件下,通入惰性气体(N2),优化硅片界面质量的一种设备。
-
THEORIS 302 /FLOURIS 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业LPCVD炉管设备。
-
THEORIS 302/FLOURIS 201 立式合金炉是在低温条件下,通入惰性或还原性气体(N2/H2),优化硅片表面的一种设备。
-
广泛应用在高附加价值微电子产业,用于SixNy(含低应力)、SiO2、Poly-Si等薄膜淀积,满足多种高端成膜需求。
-
卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求,广泛用于IC、POWER、PV、MEMS、LED等领域。