集成电路 IC
集成电路作为信息产业的基础及核心,是关系国民经济和社会发展全局的基础性、先导性和战略性产业,已成为拉动电子工业迈向数字时代的强大引擎。国际上也以其技术水平作为衡量国家综合国力的重要标志之一。集成电路制造领域,NAURA厚积薄发,自主研发了国内应用于先进制程的等离子硅刻蚀机,已正式进入客户生产线;应用于28nm制程的Hardmask PVD设备,已成为国内主流芯片代工厂的Baseline设备,并成功进入国际供应链体系,代表着国产集成电路工艺设备的较高水平;单片清洗机、立式氧化炉、单片退火系统、Al Pad PVD等设备也均进入主流代工厂,实现批量销售。
等离子刻蚀设备 Etcher

-
NMC508M 8英寸铝金属刻蚀机是应用于0.11-0.35um制程集成电路金属互连线刻蚀工艺的干法刻蚀机。
-
NMC508C 8英寸硅刻蚀机是应用于0.11-0.35um制程集成电路(多晶硅栅极和浅沟槽隔离等)硅刻蚀工艺的干法刻蚀机。
-
NMC612C 12英寸硅刻蚀机是应用于90-40nm制程集成电路浅沟槽隔离刻蚀和多晶硅栅极刻蚀的干法刻蚀设备。
-
NMC612D 12英寸硅刻蚀机是应用于先进制程集成电路的干法刻蚀设备,用于FinFET,STI和Gate刻蚀工艺。
-
NMC612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-28nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备,用于TiN,HR,M0C,HK等刻蚀工艺。