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北方华创完成刻蚀领域的又一块拼图——CCP介质刻蚀
发布时间:2022-08-15

  2005年8月,北方华创第一台ICP刻蚀机进入大生产线,目前已有上千台设备服务客户;2017年11月,北方华创推出第一台金属刻蚀机,目前已有上百台设备服务客户;今天,北方华创正式发布CCP介质刻蚀机,目前已在5家客户完成验证并实现量产!


  实现刻蚀工艺全覆盖

  一直以来,让您坚定选择的北方华创刻蚀产品,究竟凭借什么?

  Reliable 可靠 ?Innovative 创新 ?Excellent 卓越 ?

  背靠深厚历史积淀的NMC508系列,又迎来了新成员——NMC508 RIE 介质刻蚀机。



  Reliable 可靠——精研需求,赢得信赖
  · 拥有8吋设备二十年工艺基础,稳扎稳打,善作善成;
  · 专为8吋工艺设计的腔室与硬件,更加贴合客户,满足定制化需求;
  · 6&8吋兼容,可实现快速切换;
  · 目前,已在5家客户完成验证并实现量产[1];
  · 18年成熟的软件系统应用,以及稳定的备件系统,配备可靠供应链;
  · 搭载全套服务团队,可为您提供包括工艺开发、零部件供应、软件升级、质保服务等在内的全方位保障,卓越的性能与服务可为您的量产保驾护航。
  [1] 统计截止时间:2022年7月

  Innovative 创新——先进技术,芯雕细刻
  · 在前道工艺上,具有刻蚀形貌好、选择比高、工艺性能优越的特点;在后道工艺,可实现对金属副产物的有效控制,维护周期长;
  · 采用多频射频技术,具有刻蚀速率高、工艺均匀性佳、工艺窗口大等特点,可更好满足深孔小CD的应用发展趋势;
  · 在晶圆传输平台系统上,采用自主研发的通用平台,拥有成熟的软件系统,并具备晶圆自动定心(AWC)功能,满足晶圆稳定传输作业的需求;
  · 在腔室设计上,采用防等离子打火结构和精确的电极控温设计,具备温度分区控制功能,配备终点检测系统,满足关键刻蚀工艺的均一性、终点抓取等需求,且颗粒表现佳;
  · 耗材寿命长,维护便捷,可满足您拥有成本(COO)和消耗成本(COC)双低的需求。

  Excellent 卓——时代前沿,卓越不凡
  · 作为CCP刻蚀机,具备在介质刻蚀上的高选择比、高刻蚀速率等优势,适用于介质类氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等膜层材料;
  · 可为客户提供包括逻辑器件、功率器件、化合物半导体等在内的多种特色工艺;
  · 主要应用领域包括但不限于:Logic, BCD, Power(Si/SiC/GaN), MEMS;
  · 完成了该领域国产设备工艺的又一块拼图,实现了北方华创在8吋刻蚀设备上的整体解决方案,包括硅刻蚀、深硅刻蚀、金属刻蚀、化合物半导体刻蚀(SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO3, LiTaO3等)等工艺设备。

  - 不“止”刻蚀 -
  作为一家平台型企业,北方华创还可为您提供包括PVD、CVD、ALD、炉管、清洗等在内的8吋设备,为您提供整体解决方案。

  - 跨越,再跨越 -
  一次次的突破,是为了更好地出发,北方华创始终坚持以精良的产品与服务,为客户创造价值,持续支撑产业发展;始终保持对前沿科技的崇敬和探索,造就技术与解决方案的前瞻性与先进性,带给产业无限可能!

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