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聚“芯合力”,北方华创邀您共赴CSTIC 2022
发布时间:2022-06-14

    中国国际半导体技术大会(CSTIC 2022)将于6月14日-7月12日在SEMI云端线上举行。近百位世界顶级专家汇聚一堂,共享前沿技术,内容涵盖IC设计、器件与集成、光刻、刻蚀、CMP、封装测试、化合物半导体等。




   北方华创的资深专家们将在分论坛三- Dry & Wet Etch and Cleaning带来最新的刻蚀技术成果。在此,北方华创诚挚邀请您与我们一同交流探讨前沿刻蚀技术,推动产业进步,创造无限可能。


NAURA演讲时间


-Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning-


Session III: FEOL/MOL Etching

演讲题目:《Bitline Etch Process Development for 1y nm DRAM Manufacturing

讲师:姚兴俊 先生



Session III: FEOL/MOL Etching

演讲题目:《200/150/100mm Compatible, ICP/CCP Etch Total Solutions

讲师:张轶铭 博士



Session IV: Plasma Source and Wet Etch/Clean

演讲题目:《SADP etch process development using PR core for sub 17nm DRAM

讲师:徐力田 先生



Session V: BEOL Etching and Memory Etch

演讲题目:《Hard mask etch process development for patterning 60nm magnetic tunnel junction

讲师:李晓辉 女士


Session VI: Other Etch and Patterning

演讲题目:《Trench Etch for SiC Power Devices

讲师:谢秋实 先生

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