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Esther 200单片硅外延系统 Esther 200 Single Wafer Silicon Epitaxy System
Esther200单片硅外延系统是一种单片硅外延化学气相沉积系统。随着IC制造向更小特征线宽尺寸和更薄外延层的发展,集成电路器件对于外延片的质量要求不断增加,也对外延系统的功能和外延性能提出了更高的要求,诸如工艺均匀性控制、低晶体缺陷、低掺杂和颗粒密度可控性强的要求等,越来越多的外延工艺需要采用单片式的硅外延系统。Esther200单片硅外延系统具有先进的红外加热控制技术和加热模块设计,可实现温度的快速升降和温度场的精确控制,使系统具备优异的工艺重复性和设备稳定性,从而获得良好的厚度均匀性、电阻率均匀性,零滑移线...

应用领域:

  功率器件、集成电路


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