Polaris Series 8/12英寸通用物理气相沉积系统
Polaris Series 8/12 Inch PVD System
- 设备特点
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- 专业的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率
- 灵活的腔室配置，8/12英寸兼容
- 稳定的传输系统，兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输
- 稳定并且低的Rc表现，良好的颗粒和应力控制能力
- 优化的工艺流程带来大产能表现，低运营成本
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8/12英寸兼容
- 适用材料铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等
- 适用工艺晶圆级先进封装中的UBM金属溅射、重布线
- 适用领域先进封装、硅基微型显示
