半导体装备 Semiconductor

iTops Series

PVD ITO 溅射系统

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iTops Series PVD ITO 溅射系统
iTops Series PVD ITO Sputter System
iTops 溅射系统主要用于4、6、8英寸ITO沉积工艺。系统由1个传输模块、4个工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该机台为多腔室设备,6K平台可配备不同的工艺腔室,并且可搭配loading机实现自动化生产。
设备特点
  • 采用托盘形式,可兼容2/4/6 英寸晶圆
  • 工艺温度在0~700℃之间
  • 结构简单,操作简便,维护方便
  • 设备稳定,运营成本低
产品应用
  • 晶圆尺寸
    2、4、6英寸
  • 适用材料
    铟锡氧化物
  • 适用工艺
    ITO电流扩展层
  • 适用领域
    半导体照明
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