半导体装备 Semiconductor

Polaris Series

8英寸物理气相沉积系统

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Polaris Series 8英寸物理气相沉积系统
Polaris Series 8 Inch PVD System
Polaris 系列主要用于8寸及以下晶圆金属薄膜沉积工艺。该机台为多腔室Cluster结构,可支持6个工艺模块,能够进行全自动工艺处理。系统主要由传输模块、工艺模块、灰区部件、电源柜等组成。其中工艺模块主要用于晶圆表面预处理和薄膜沉积,传输模块用于把晶圆安全而准确的送达到指定工位。
设备特点
  • 多种材料膜层工艺能力,低损伤,高深宽比填充能力
  • 独立工艺腔室,可支持6个工艺模块
  • 良好的温度和颗粒控制能力
  • 配置灵活、大产能、低运营成本
产品应用
  • 晶圆尺寸
    6、8 英寸
  • 适用材料
    银、钨化钛、金、铂、钛、氮化钛、铝等
  • 适用工艺
    倒装工艺、金属电极等
  • 适用领域
    化合物半导体、半导体照明、硅基微型显示、科研领域
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