半导体装备 Semiconductor

eVictor Series

8英寸物理气相沉积系统

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eVictor Series 8英寸物理气相沉积系统
eVictor Series 8 Inch PVD System
eVictor系列设备主要用于8英寸晶圆金属薄膜沉积工艺。该机台为多腔室前后双平台结构,可支持10个工艺模块,能够进行全自动工艺处理。系统主要由传输模块、工艺模块、灰区部件、电源柜等组成。其中工艺模块主要用于晶圆表面预处理和薄膜沉积,传输模块用于把晶圆安全而准确地送达到指定工位。
设备特点
  • 专业的加热基座设计,具备良好的温度均匀性,高温厚铝工艺连续作业无累温
  • 高温铝工艺具备高深宽比填充能力
  • 背金工艺薄片传输及工艺,过程温度实时监控,精确的温度控制能力和良好应力控制能力
  • 双腔传输平台,可支持10 个工艺模块
  • 靶材利用率高,大产能,低运营成本
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8 英寸
  • 适用材料
    钛、氮化钛、高温铝、 镍、镍钒、银
  • 适用工艺
    正面电极工艺、背面金属化工艺
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、科研领域、化合物半导体
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