HORIS P12 管式等离子体增强型化学气相沉积设备
HORIS P12 PECVD System
- 设备特点
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- 配备自动上下料系统，成熟的MES接口经验
- 高精度控温，在线工艺调整，工艺结果一致性和稳定性高
- 多预警功能，提升维护性和安全性
- 石墨舟预订管理系统，实现舟精准管理
- 具备多种快速、高质量镀膜技术，如多层复合膜/Poly层等
- 产品应用
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- 适用硅片尺寸156mm~230mm
- 装片量432~780 片/舟
- 单机台管数5、6、10、12 管/系统
- 工艺种类氮化硅、氧化硅、氧化铝、Poly、掺杂、退火等
- 温度范围150～650℃
- 适用领域新能源光伏
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