APS Series 感应式SiC长晶炉
APS Series Induction SiC Crystal Growing Furnace
- 设备特点
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- 适用于6、8英寸，导电/高纯半绝缘型SiC晶体生长
- 专业的结构设计，提供高纯材料生长能力
- 适于长时/高温/低压工艺，拓宽高质量/大规模晶体生长窗口
- 包含多款辅助设备，大产能原料合成炉、晶锭退火炉、AlN长晶炉及其他
- 产品应用
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- 晶圆尺寸6、8英寸
- 适用材料碳化硅、氮化铝
- 适用工艺物理气相输运法（PVT 法）
- 适用领域化合物半导体、衬底材料、科研领域
- 加热方式感应加热
