THEORIS X302H 12英寸立式高温氧化炉
THEORIS X302H 12 Inch Vertical High-Temp Oxidation Furnace
- 设备特点
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- 先进的颗粒控制技术
- 先进的金属污染控制技术
- 高精度温度场控制技术
- 支持快速升/降温度技术
- 高产能
- 产品应用
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- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺高温干/湿氧氧化、DCE氧化、掺氮氧化、高温退火
- 适用领域先进集成电路、功率半导体、衬底材料