SC3080 12英寸单片清洗设备
SC3080 12 Inch Single Wafer Clean Tool
- 设备特点
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- 精密的腔室微环境控制能力
- 支持多种化学品
- 高效的化学品回收效率
- 4 腔或8腔可选
- 优秀的干燥效果
- 产品应用
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- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜
- 适用工艺后段Cu/Al 制程刻蚀后、Al Pad、背面清洗、背面刻蚀,后段控挡片回收
- 适用领域集成电路、先进封装、功率半导体、硅基微显示