等离子体增强化学气相沉积系统 - 产品管理 - 北方华创

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半导体装备 Semiconductor

EPEE i800

等离子体增强化学气相沉积系统

EPEE i800 等离子体增强化学气相沉积系统

EPEE i800 PECVD System

EPEE i800系列主要用于6英寸及以下氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等介质薄膜沉积工艺，采用单腔多片自动化传输架构，兼容蓝宝石、SiC、砷化镓等不同衬底规格，可广泛应用于化合物半导体、半导体照明、科研等领域。

设备特点

多站式旋转沉积架构，兼具产能和均匀性优势
良好的片内、片间薄膜均匀性控制
全自动晶圆传输系统，高效便捷
高效大功率在线清洗工艺及沉积颗粒度控制
集成多项人性化软件操作功能

产品应用

晶圆尺寸
8英寸及以下
适用材料
氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
适用工艺
氧化硅图形化衬底层、钝化保护层、绝缘层、掩摸层沉积
适用领域
化合物半导体、半导体照明、科研领域

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