NMC 508M 金属刻蚀机
NMC 508M Metal Etcher
- 设备特点
-
- 可调节的等离子体源设计,精确的离子能量控制
- 金属刻蚀能力优,工艺应用广泛
- 量产稳定,高MTBC
- 低拥有成本、低运营成本
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸6/8英寸兼容
- 适用材料铝、氮化钛、钼、钨、氧化铟锡等
- 适用工艺顶层金属刻蚀、中间层金属刻蚀等
- 适用领域集成电路、化合物半导体、功率半导体、硅基微型显示、科研领域