半导体装备 Semiconductor

TAU Series

离子微粒吸附设备

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TAU Series 离子微粒吸附设备
TAU Series Thermal AMC Unit
TAU系列离子微粒吸附设备在面板生产中主要应用于曝光机设备，用于去除空气中可能会降低曝光机镜组折射率的有害物质。同时具有精确控制温度和控制湿度的功能。
设备特点
  • 提升产品蚀刻及显影良率
  • 防止曝光设备镜面雾化以延长镜组使用年限
  • 防止镜片组污染，延长灯具照度与寿命
产品应用
  • 湿度控制精度
    ±5%RH~±3%RH
  • 温度控制精度
    ±0.5℃~±0.3℃
  • 气状分子污染物去除率
    ＞80% in Main AMC
  • 适用领域
    主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的AMC 污染物
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