首页
关于华创
新闻&活动
产品&服务
加入我们
投资者关系
切换语言
关于华创
了解华创
品牌释义
企业文化
行业地位
企业荣誉
社会责任
合规声明
新闻&活动
企业新闻
展会活动
产品&服务
半导体装备
真空新能源装备
精密元器件
服务网络
加入我们
人才理念
半导体装备
真空新能源装备
精密元器件
人在NAURA
投资者关系
了解华创
品牌释义
企业文化
行业地位
企业荣誉
社会责任
合规声明
企业新闻
展会活动
半导体装备
真空新能源装备
精密元器件
服务网络
产品系列
等离子刻蚀设备 Etch
物理气相沉积设备 PVD
化学气相沉积设备 CVD
湿法设备 WET
键合设备 Bonder
立式炉管设备 Vertical Furnace
离子注入设备 Implant
快速热处理设备 RTP
外延设备 EPI
应用领域
集成电路 IC
先进封装 Advanced Packaging
化合物半导体 Compound Semiconductor
新兴应用与科研领域设备 Emerging Applications and R&D
客户服务 Services
备品备件 Parts
产品系列
晶体生长设备 Crystal Growth Equipment
炉管设备 Tube Furnace
真空及气氛烧结装备 Vacuum & Atmosphere Sintering Equipment
真空及气氛焊接装备 Vacuum & Atmosphere Welding Equipment
真空及气氛热处理装备 Vacuum & Atmosphere Heat Treatment Equipment
工业薄膜沉积装备 Industrial Thin Film Deposition Equipment
板级封装装备 Panel-Level Packaging Equipment
平板显示装备 Flat Panel Display Equipment
应用领域
光伏 Photovoltaics (PV) Industry
锂电 Li-ion Battery
半导体 Semiconductor
真空电子 Vacuum Electronics
三航两机 Aerospace, Aviation, Marine, Aero-engine and Gas turbine
石墨碳材 Graphite and Carbon Materials
磁性材料 Magnetic Materials
光学镀膜 Optical Coating
功能涂层 Functional Coating
板级封装 Panel-level Packaging
显示 Display
产品系列
外壳 Packages
电阻器 Resistors
电容器 Capacitors
磁心 Magnetic Cores
电感器 Inductors
晶体谐振器 Crystal Resonators
晶体振荡器 Crystal Oscillators
传感器 Sensors
光电子器件 Optoelectronic Devices
微波器件 Microwave Devices
微波组件 Microwave Modules
模块电源 Power Modules
模拟芯片 Analog ICs
数字芯片 Digital ICs
电源芯片 Power IC
人才理念
半导体装备
真空新能源装备
精密元器件
人在NAURA
加入我们
人才理念
人在NAURA
半导体装备
社会招聘
校园招聘
海外招聘
内部推荐
真空新能源装备
社会招聘
校园招聘
内部推荐
精密元件器装备
社会招聘
校园招聘
加入我们
人才理念
人在NAURA
搜索
简体中文
English
首页
产品&服务
半导体装备
湿法设备
12英寸槽式清洗设备
半导体装备 Semiconductor
WE3102系列
12英寸槽式清洗设备
联系咨询
公司名称:
WE3102系列 12英寸槽式清洗设备
WE3102 Series 12 Inch Wet Bench Clean Tool
主要用于集成电路、新兴应用等领域12英寸清洗工艺。采用模块化、标准化设计,满足客户多种工艺应用需求;集成多功能药液槽,刻蚀速率控制精准;应用先进的低压干燥技术,实现良好的干燥效果。
设备特点
可配备iCB多药液工艺槽,支持 DN unit, DIO3 等附属功能
软件量身定制,具备快速更新能力
较高的温度控制稳定性
超高的补水精度
精准的蚀刻速率控制
优秀的干燥效果
产品应用
晶圆尺寸
12英寸
适用材料
光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
适用工艺
炉前清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片回收
适用领域
集成电路、新兴应用
分享我们:
微信扫一扫
联系我们
官方公众号