半导体装备 Semiconductor

Surefill系列

化学气相沉积系统

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Surefill系列 化学气相沉积系统
Surefill Series CVD System
Surefill系列CVD金属薄膜沉积设备可具备12英寸和8英寸能力,系统主要由大气平台、真空传输平台、工艺腔室组成,采用8K平台,最多可配置6个工艺腔室,可根据客户需求,灵活配置腔室数量。
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