半导体装备 Semiconductor

Orion系列

12英寸化学气相沉积系统

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Orion系列 12英寸化学气相沉积系统
Orion Series 12 Inch CVD System
Orion系列设备主要应用于12英寸金属钨、氮化钨沉积，设备采用Orion平台，四工艺位设计，具备大产能优势。设备主要由大气平台、真空传输平台、前处理腔室以及工艺腔室组成。
设备特点
产品应用
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