Landscape A是应用于12英寸硅晶圆器件的高剂量、低能量的离子注入掺杂设备。该设备具有高精度的能量控制和剂量控制系统，实现优异的掺杂均匀性和稳定性。不仅适用于存储和逻辑领域的平面掺杂，如多晶硅栅极掺杂、源极/漏极掺杂、源极/漏极接触掺杂、加氢钝化、超浅结掺杂、材料改性等关键工艺，更突破传统离子注入设备局限，为复杂3D结构掺杂提供高效解决方案，量产表现优异。