MC612G是应用于12英寸金属刻蚀的等离子体干法刻蚀设备，兼容铝、钼、钨、介质、氧化铟锡等金属氧化物多种刻蚀材料。该设备配置高性能的静电卡盘，可支持Si wafer、SiC wafer及glass wafer稳定吸附，具有丰富的工艺调试手段、较高的刻蚀均匀性以及量产稳定性。NMC612G广泛应用于Logic、DRAM、3D NAND、Power、CIS、微显示、硅光等领域，量产经验丰富。