NMC612M是应用于12英寸金属刻蚀的等离子体干法刻蚀设备。该设备具有脉冲等离子体控制技术，提供灵活的工艺调试能力，能够实现精准的刻蚀形貌控制，并具备多区温控静电吸附卡盘，提高晶圆温度均匀性。NMC612M能够满足TiN、HiR、HiK、W以及复杂叠层金属刻蚀的工艺和量产需求，主要应用于Logic、3D NAND、CIS、微显示、硅光等领域，量产经验丰富。