NMC612C是应用于12英寸硅刻蚀的等离子体干法刻蚀设备。该设备具有丰富的工艺调试手段、较高的刻蚀均匀性以及量产稳定性，主要应用于浅沟槽隔离刻蚀，栅极刻蚀、侧墙刻蚀等刻蚀工艺，深耕成熟Logic和Power等领域，量产经验丰富。
