GSE C200多功能刻蚀机主要用于科研/高校/新兴领域的8英寸及以下硅/介质/金属/化合物等多种材料干法刻蚀。采用高密度可调等离子体源和全控温设计，均匀性好，易维护，性能稳定。设备兼容手动、自动两种运行模式，12路气体配置，提供丰富的工艺数据库支持，充分满足新工艺研发、失效分析等场景使用需求。
