ACE E300Ge 刻蚀设备面向 3D 结构、高深宽比先进存储制程，搭载立体高密度等离子源与超高效率离子过滤装置核心硬件配置。依托精准调控粒子能量分布的离子过滤核心技术，兼容多类薄膜材料刻蚀工艺，实现高选择比金属硬掩模刻蚀与存储晶圆低损伤表面处理，可缩减掩膜厚度、简化上下游制程，搭配OES Plus监测腔室稳定性，保障批量工艺稳定重复。设备兼具宽泛的材料工艺适配能力与极致超高刻蚀选择比，作为先进存储工艺专用高端刻蚀设备，为该类高端刻蚀制程提供专属解决方案。